PECVD系统 管式炉化学气相沉积设备 厂家直营可定制
价格 | ¥15000.00/台 | ¥14000.00/台 |
起订量 | ≥1 | ≥5 |
所在地 | 河南 郑州 | 可售量 10000台 |
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基本参数
品牌 | 恒塑 | 型号 | HS-1200K-CVD |
加工定制 | 是 | 类型 | 实验室PECVD系统 |
尺寸 | 可定制 | 额定功率 | 4KW |
操作方式 | 触控 | 定时功能 | 有 |
材质 | 优质钢板 | 温度范围 | 0-1200℃ |
工作室尺寸 | 可定制 | 功率 | 4KW |
功能特点:
在真空压力下,加在电感线圈的射频电场,使反应室气体发生辉光放电,在辉光发电区域产生大量的电子。这些电子在电场的作用下获得充足的能量,其本身温度很高,它与气体分子相碰撞,使气体分子活化。它们吸附在衬底上,并发生化学反应生成介质膜,副产物从衬底上解吸,随主气流由真空泵抽走,称为等离子体增强化学气相沉(PECVD)
产品用途:
PECVD开启式管式炉系统由
适用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用
产品参数
控温方式:采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,并可编制30段升降温程序。
加热元件:0Cr27Al7Mo2
工作电源:AC220V 50Hz/60Hz
额定功率:4kw
炉管材质:高纯石英管
炉管尺寸:Φ60/Φ80*1200mm
工作温度:≤1150℃
最高温度:1200℃
恒温精度:±1℃
恒温区:200mm
升温速度:≤10℃/min
密封方式:不锈钢快速法兰挤压密封
极限真空:6.0×10-5Pa
工作真空:7.6×10-4Pa
产品配置:双级旋片真空泵+分子泵
测量方式:复合真空计
真空规管:电阻规+电离规
冷却方式:风冷
抽速:110L/S
射频电源系统
射频功率输出范围:5~500W
射频频率:13.56MHz±0.005%
噪声:≤55DB
冷却方式:风冷
功率温定度:± 0.1%
混气系统流量规格:0-200sccm (可根据客户需要配置)
线性:±1.5%F.S
准确度:±1.5%F.S
重复精度:±0.2%F.S.
响应时间:≤8sec
耐压:3MPa
气路通道:4通道(根据客户需求)
针阀:316不锈钢
管道:Φ6mm不锈钢管
接口:SwagelokΦ6mm
郑州市恒塑电子科技有限公司
联系人:
罗先生
服务热线:
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公司地址:
郑州高新技术产业开发区枫林路27号4号楼5层507号
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