郑州市恒塑电子科技有限公司
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PECVD系统 管式炉化学气相沉积设备 厂家直营可定制

价格 15000.00/台 14000.00/台
起订量 ≥1 ≥5
所在地 河南 郑州 可售量 10000台

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商品详情 联系方式

基本参数

品牌 恒塑 型号 HS-1200K-CVD
加工定制 类型 实验室PECVD系统
尺寸 可定制 额定功率 4KW
操作方式 触控 定时功能
材质 优质钢板 温度范围 0-1200℃
工作室尺寸 可定制 功率 4KW

功能特点:
在真空压力下,加在电感线圈的射频电场,使反应室气体发生辉光放电,在辉光发电区域产生大量的电子。这些电子在电场的作用下获得充足的能量,其本身温度很高,它与气体分子相碰撞,使气体分子活化。它们吸附在衬底上,并发生化学反应生成介质膜,副产物从衬底上解吸,随主气流由真空泵抽走,称为等离子体增强化学气相沉(PECVD)
产品用途:
PECVD开启式管式炉系统由管式炉style="box-sizing: border-box;text-decoration:underline;">开启式管式炉、高真空分子泵系统、射频电源系统及多通道高精度数字质量流量控制系统组成,是实验室生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等的理想选择。
适用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用
产品参数

  • 控温方式:采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,并可编制30段升降温程序。

  • 加热元件:0Cr27Al7Mo2

  • 工作电源:AC220V 50Hz/60Hz

  • 额定功率:4kw

  • 炉管材质:高纯石英管

  • 炉管尺寸:Φ60/Φ80*1200mm

  • 工作温度:≤1150℃

  • 最高温度:1200℃

  • 恒温精度:±1℃

  • 恒温区:200mm

  • 升温速度:≤10℃/min

  • 密封方式:不锈钢快速法兰挤压密封

  • 极限真空:6.0×10-5Pa

  • 工作真空:7.6×10-4Pa

  • 产品配置:双级旋片真空泵+分子泵

  • 测量方式:复合真空计

  • 真空规管:电阻规+电离规

  • 冷却方式:风冷

  • 抽速:110L/S

  • 射频电源系统

  • 射频功率输出范围:5~500W

  • 射频频率:13.56MHz±0.005%

  • 噪声:≤55DB

  • 冷却方式:风冷

  • 功率温定度:± 0.1%

  • 混气系统流量规格:0-200sccm (可根据客户需要配置)

  • 线性:±1.5%F.S

  • 准确度:±1.5%F.S

  • 重复精度:±0.2%F.S.

  • 响应时间:≤8sec

  • 耐压:3MPa

  • 气路通道:4通道(根据客户需求)

  • 针阀:316不锈钢

  • 管道:Φ6mm不锈钢管

  • 接口:SwagelokΦ6mm


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