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真空镀膜靶材溅射镀膜靶材磁控溅射靶材(UVTM)

价格 1000/件 950/件
起订量 ≥1 ≥10
所在地 广东 广州 可售量 99999件

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基本参数

产品特性 磁控溅射靶 工件材质 磁控溅射靶材
类型 真空镀 货号 UVTM
打样周期 4-7天 加工周期 4-7天
年最大加工能力 99999 年剩余加工能力 99999
品牌 UVTM

      中国兵器装备集团公司自主研制的溅射镀膜靶材通过省级鉴定,技术性能达到国内先进水平。溅射镀膜靶材主要应用于溅射镀膜机台,属于高档耗材。溅射镀膜靶材的生产利用光学镀膜技术对粘结面金属化将二者粘结而成,实现了靶材与背板的良好粘结效果,产品设计有别于其他光学薄膜材料,从材料的选用,到加工工艺设计,都高于一般的光学材料技术标准。

      PVD技术是制备薄膜材料的主要技术之一,用于制备薄膜材料的物质被称为PVD镀膜材料。经过多年发展,PVD镀膜技术被广泛用于应用于电子、光学、机械、建筑、材料等领域。溅射镀膜和真空蒸发镀膜是两种主流的两种PVD镀膜方式。溅射(Sputtering)镀膜技术利用离子源产生的离子。



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