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高纯ITO靶材光伏用ITO靶材ito靶材密度ITO靶材比例(973)

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所在地 广东 广州 可售量 99999件

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基本参数

产品特性 ITO靶材 工件材质 ITO靶材比例
类型 真空镀 货号 UVTM
打样周期 8-15天 加工周期 8-15天
年最大加工能力 999999 年剩余加工能力 999999
品牌 UVTM

什么是磁控溅射镀膜靶材?磁控溅射镀膜是一种新型的物相镀膜方式,就是用电子系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。溅射靶材有金属,合金,陶瓷,硼化物等。溅射靶材主要应用于电子及信息产业。世界上50%-70%的钽以电容器级钽粉和钽丝的形式用于制作钽电容器。

光碟的膜层也是多层组成的,它在染料层上镀上30nm厚的铁钴合金记录层,里面混有非晶态稀土过渡元素,再镀上20到100nm厚的氮化硅介质层,后镀上铝膜反射层。这些需要落得磁性能,能够记录数据的电子产品,要实现这些功能,还是要靠各种不同物质所溅射而成的薄膜,靠其成膜后显示出来的晶体状态排序来实现。



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