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基本参数
产品特性 | 绑定硅靶 | 工件材质 | 绑定硅靶 |
类型 | 真空镀 | 货号 | UVTM |
打样周期 | 4-7天 | 加工周期 | 4-7天 |
年最大加工能力 | 99999 | 年剩余加工能力 | 99999 |
品牌 | UVTM |
真空镀膜用靶材,硅化物陶瓷溅射靶材,硫化物陶瓷溅射靶材,碲化物陶瓷溅射靶材,其他陶瓷靶材,掺铬一氧化硅陶瓷靶材4P9Q6.html">陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化铟靶材(InP),铅靶材(PbAs),铟靶材(InAs)、陶瓷靶材ITO靶。
由于人们对溅射机理缺乏深入了解且溅射薄膜技术发展缓慢,商业化的磁控溅射设备直到1970年才逐渐应用于实验室和小型生产。自20世纪80年代,以集成电路、信息存储、液晶显示器、激光存储器、电子控制器为主的电子与信息产业开始进入高速发展时期,磁控溅射技术才从实验室应用真正进入工业化规模生产应用领域。近10年来,溅射技术更是取得了突飞猛进的发展。
相比PVD另一大工艺真空镀膜,溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制,可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜,所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点,已成为制备薄膜材料的主要技术。根据应用领域的不同,靶材的材料、形状也会有所差异。根据形状可分为长(正)方体形、圆柱体形、无规则形以及实心、空心靶材。
广州市尤特新材料有限公司
联系人:
杨先生
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公司地址:
广州市花都区花山镇华侨科技工业园华辉路4号
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