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铜靶材铜镍合金靶材铜钨合金靶材UVTM靶材定制

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基本参数

产品特性 铜钨合金靶 表面处理 真空镀膜
材质 不锈钢,铝合金,玻璃,铜,铝 货号 Cu
产地 广州 品牌 广州尤特
外形 圆形 颜色 金属铜
尺寸 旋转管靶 是否跨境货源

真空镀膜机在镀膜的时候,需要镀层表面的化学成分保持均匀性,厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看也就是1/10波长作为单位,约为100A,真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。化学组分上的均匀性:就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例。镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。晶格有序度的均匀性:这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题。

化学式: Cu

成型工艺: 喷涂

密度:  ≥ 8.57g/cm3(≥96%) 

纯度:  ≥ 99.9%-99.99%(根据客户需求)

应用:  制作纯铜膜,用于装饰玻璃镜膜,PCB板镀膜,TFT-LCD, Low-E玻璃镀膜,半导体电子

加工尺寸: 长度:4000MM ,厚度: 6-13MM,直型、狗骨型,按客户要求定做




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