镍钒(Ni/V)合金靶材 纯度3N 3N6 4N 现货供应
| 价格 | ￥66/mg | |
| 起订量 | ≥5 | |
| 所在地 | 陕西 西安 | 可售量 100mg |
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基本参数
| 纯度 | 99.9% | 规格 | mg |
| 品牌 | 西安齐岳 | 含量 | 0.9999 |
| 用途类别 | 标准品 | 用途范围 | 化学纯CP |
| 产品名称 | 镍钒(Ni/V)合金靶材 | 产地 | 西安 |
| 储藏方法 | 冷藏 | 包装 | 软包装 |
| 用途 | 科研 | 供货方式 | 现货 |
| 是否进口 | 否 | 产地/厂商 | 西安齐岳生物科技有限公司 |
镍钒（Ni/V）合金靶材的基本信息：
产品类别： 镍合金靶材
产品名称 ：镍钒（NiV）合金靶材
元素符号； Ni V
纯度： 3N, 3N6, 4N
形状 ：平面靶 旋转靶 异型定制
镍钒合金靶材，在集成电路制作中一般用纯金做表面导电层，但金与硅晶园容易生成AuSi低熔点化合物，导致金与硅界面粘接不牢固，人们提出了在金和硅晶圆的表面增加一粘接层，常用纯镍做粘接层，但镍层和金导电层之间也会形成扩散，因此需要再有一阻挡层，来防止金导电层和镍粘接层之间的扩散。阻挡层需要采用熔点高的金属，还要承受较大的电流密度，金属钒能满足该要求。所以在集成电路制作中会用到镍溅射靶材、钒溅射靶材、金溅射靶材等。镍钒溅射靶材是在制备镍钒合金靶材过程中，在镍熔体中加入钒，使制备出的合金更有利于磁控溅射，结合了镍溅射靶材和钒溅射靶材的优点，可一次完成溅射镍层（粘接层）和钒层（阻挡层）。镍钒合金无磁性，有利于磁控溅射，在电子及信息产业中，正在逐步替代纯镍溅射靶材。下图是镍钒 (93/7wt%) 合金溅射靶材的显微金相检测图片,平均粒径100μm。
镍钒靶材制备工艺流程
备料 - 真空感应熔炼 - 化学分析 - 锻造 - 轧制 - 退火 - 金相检测 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 终检 - 包装
镍钒靶材产品用途：
真空镀膜，实验或研究级别用镍钒靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能落膜等
以下是客户经常购买的纯金属单质靶材，如有金属溅射靶材的需要请来咨询我们。
| 产品名 | 元素符号 | 纯度 |
| 钒靶材 | V | 纯度：3N |
| 铁靶材 | Fe | 纯度：3N, 3N5, 4N |
| 钴靶材 | Co | 纯度：3N5 |
| 银靶材 | Ag | 纯度：4N |
| 钼靶材 | Mo | 纯度：3N5 |
| 铌靶材 | Nb | 纯度：3N5 |
| 钽靶材 | Ta | 纯度：3N5, 4N |
| 钨靶材 | W | 纯度：3N5 |
| 镍靶材 | Ni | 纯度：3N, 3N6, 4N, 4N5, 5N |
| 钛靶材 | Ti | 纯度：2N7, 4N, 4N5, 5N |
| 铝靶材 | Al | 纯度：3N5, 4N, 4N6, 5N, 6N |
| 铬靶材 | Cr | 纯度：2N5，3N5 |
| 铜靶材 | Cu | 纯度：3N5~6N |
| 硅靶材 | Si | 纯度：3N~5N |
| 铟靶材 | In | 纯度：4N5 |
| 镓靶材 | Ga | 纯度：5N |
| 锡靶材 | Sn | 纯度：5N |
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西安齐岳生物科技有限公司
联系人：
张经理
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