砷化镓晶片 晶体基片
价格 | ¥125/个 | |
起订量 | ≥3 | |
所在地 | 陕西 西安 | 可售量 100个 |
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基本参数
纯度 | 99% | 规格 | 个 |
品牌 | 西安齐岳生物科技 | 用途类别 | 标准品 |
用途范围 | 化学纯CP | 产品名称 | 砷化镓晶片 |
产品等级 | 分析纯 | 产地 | 西安 |
储藏方法 | 冷藏 | 包装 | 袋装 |
用途 | 科研 | 供货方式 | 现货 |
是否进口 | 否 | 产地/厂商 | 西安齐岳生物科技 |
砷化镓(gallium arsenide),化学式GaAs,属Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体,由砷和镓两种元素化合而成,外观呈亮灰色,具金属光泽、性脆而硬,
在光电子工业领域应用层面,砷化镓单晶可被用于制作LD(激光器)、LED(发光二极管)、光电集成电路(OEIC)、光伏器件等;
在微电子工业领域应用层面,可被用于制作MESFET(金属半导体场效应管)、HEMT(高电子迁移率晶体管)、HBT(异质结双极晶体管)、IC、微波二极管、Hall器件等。
晶体材料 |
Single Crystal Gallium Arsenide, VGF / LECgrown,高纯单晶 |
||
晶向 |
(1 0 0) / (1 1 1) |
||
掺杂 |
Undoped |
Zn |
Si / Te |
直径 |
50~150mm ± 0.25mm(2"、3"、4"、6") |
||
厚度 |
350 ± 25um / 550 ± 25um / 625 ± 25um |
||
晶向 |
(100)or(111)α0±β0, off angle α and accuracy β upon request |
||
电阻率 |
(1-30)x107Ω.cm |
(1-10)x10-3Ω.cm |
|
迁移率 |
1500~3000 3000~5000 cm2/ V·sec |
N / A |
|
掺杂浓度 |
N / A |
(0.1-3.0)×1018/cm3 |
|
腐蚀缺陷密度 |
≤ 5·103cm-2 |
≤ 7·104cm-2 |
≤ 5·102cm-2 |
主定位边 |
(0-1-1)±0.5deg, 16 ±1.0mm /22±1.0mm/32.5±1.0mm |
||
次定位边 |
(0-1 1) )±5.0 deg, 8 ±1.0mm / 11±1.0mm/ 18±1.0mm |
||
正面 |
Polished in Epi-ready Prime grade,外延生长级抛光 |
||
反面 |
Polished / Lapping or Etched,抛光/研磨或腐蚀 |
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yyp2021.1.21
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