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基本参数
产品特性 | 镀膜铬管靶 | 工件材质 | 镀膜铬管靶 |
类型 | 真空镀 | 货号 | UVTM |
打样周期 | 8-15天 | 加工周期 | 8-15天 |
年最大加工能力 | 90000 | 年剩余加工能力 | 90000 |
品牌 | UVTM |
在半导体材料行业中,国产靶材替代国外靶材已经崭露头角,呈现定点突破局面,正是需要社会资金大力投入奋力追赶之关键时刻。价格也昂贵,这方面的要求明显高于平面显示器、太阳能电池等其他应用领域。在硅片的正面和背面制造非常精细的电路,将光生电子导出电池。特定晶向的单晶硅片放入碱溶液中腐蚀,即可在硅片表面产生出许多细小的金字塔状外观。定了极其苛刻的标准,若溅射靶材的杂质含量过高。
研究结果表明,磁轭倾角的增加。近年来,型上有了较大的突破。喷涂技术在工业应用上非常广泛。喷涂法是利用高压气体(NH混合气体或空气)携带粉末颗粒经缩放管产生超音速双相流。使用氧化铌粉体和少量金属Nb,用等离子体喷涂实现了工业化制备旋转氧化铌靶材、化合物涂层。
广州市尤特新材料有限公司
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