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高纯度银溅射靶材溅射银靶材Ag溅射靶材

价格 800/件 780/件
起订量 ≥5 ≥20
所在地 广东 广州 可售量 9999件

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基本参数

产品特性 溅射银靶材 工件材质 溅射银靶材
类型 真空镀 货号 UVTM
打样周期 4-7天 加工周期 4-7天
年最大加工能力 9999 年剩余加工能力 9999
品牌 UVTM

微电子靶材这块,国内靶材企业该属于第二梯队。在过去十几年里,中国的微电子靶材从零开始,能发展到目前的水平,应该说成果是非常显著的。光学器件需依靠光学镀膜形成一层或多层的介电质膜和金属膜,通过二者组成的膜系来改变光波传导的特性。包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变,主要用到硅、铌、二氧化硅、钽等靶材。光学器件应用范围非常广泛。

高纯贵金属靶材在电子信息产业中的应用广泛,因贵金属有良好的化学稳定性,高电导率、热导率,以及特有的电学、磁学、光学等性能,广泛应用于高性能薄膜材料的制备,各种高纯贵金属、新型合金和化合物功能的薄膜不断得到开发。高纯金和高纯银因具有接触电阻小,热阻低,热效应力小和可靠性高等优点。其靶材材料广泛应用于背面金属化系统、汽车工业、高温材料和生物医学中。




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