高纯氧化铌靶材Nb2O5靶材五氧化二铌靶材氧化铌靶材价格

价格	￥720.00/件	￥685.00/件
起订量	≥2	≥20
所在地	广东广州	可售量 5000件

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广州市尤特新材料有限公司

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所在地区：广东广州

主营产品：磁控溅射靶材, 陶瓷靶材, 金属靶材, ITO靶材,

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基本参数

产品特性	氧化铌靶材	工件材质	氧化铌靶材
类型	真空镀	货号	广州尤特
打样周期	4-7天	加工周期	4-7天
年最大加工能力	5000	年剩余加工能力	5000
品牌	UVTM

溅射镀膜是制备薄膜的主要技术之一，综合优势显著。溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材。PVD镀膜目前主要有三种形式，分别是溅射镀膜、蒸发镀膜以及离子镀膜。综合而言，蒸镀薄膜的密度较差，只能达到理论密度的95%，镀膜的附着力也较差，但是蒸镀的镀膜速率较快。离子镀不但密度较高、晶粒较小，而且镀膜与基板的附着力也是三种镀膜中较大的，只是离子镀膜较大的缺点是基板必需是导电材料，并且镀膜时基板的温度会升高到摄氏几百度，上述的缺点使离子镀的应用受到很大的限制。

目前，溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，用溅射靶材沉积的薄膜致密度高，与基材之间的附着性好，所以从理论而言，溅射镀膜的性质，牢固度都比热蒸发和电子束蒸发薄膜好。