二硫化钼01SiO2/Si基底MoS2
价格 | ¥1056.00/件 | |
起订量 | ≥1 | |
所在地 | 江苏 苏州 | 可售量 10000件 |
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基本参数
品牌 | 无 | 型号 | 二硫化钼01 |
加工定制 | 是 | 产地 | 北京 |
公差 | 0.01 | 类型 | 二维薄膜材料CVD |
表面处理 | 不经处理 | 厚度 | 不经处理 |
适用范围 | 不经处理 | 重量 | 不经处理 |
货号 | 无 | 用途 | 科研二维材料 |
加工能力 | 科研实验 | 规格 | 300nm,其它厚度 |
是否跨境出口专供货源 | 否 |
亲,有需要可以联系15652932614
产品信息:
基本性质:无掺杂二硫化钼是层状N型半导体,属于过渡金属二硫族化合物,块状能带间隙为1.23eV (间接带隙),单层MoS2带隙~1.85eV(直接带隙)。
制造方法:化学气相沉积法, Chemical Vapor Deposition (CVD)
产品简介:MoS2薄膜分为多种:1) 单层离散分布的三角状单晶晶粒,三角边长一般是几十至一百微米。2) 由三角晶粒继续长大连在一起的单层连续薄膜。3) 多层MoS2 连续薄膜。4) 基底:MoS2可选基底较多,其中最常用的硅片基底、带氧化层硅片基底和蓝宝石基底为直接沉积产品。其他基底例如PET,PI,ITO,FTO,玻璃,金属基底等是通过在蓝宝石上生长后转移至客户所需基底。
应用领域:光电器件,微电子器件,生物传感,化学传感等领域。
包装及规格:10*10mm,15*15mm,20*20mm,2英寸圆片,4英寸圆片 或客户指定的定制尺寸。净化抽真空包装, 1片/盒,5片/盒。10片/盒。
苏州凯发新材料科技有限公司
联系人:
杨经理
服务热线:
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公司地址:
苏州工业园区东旺路8号8幢2楼206室
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