二硫化钼05硅片基底MoS2
| 价格 | ￥1056.00/件 | |
| 起订量 | ≥1 | |
| 所在地 | 江苏 苏州 | 可售量 10000件 |
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基本参数
| 品牌 | 无 | 型号 | 硅片基底 |
| 加工定制 | 是 | 产地 | 北京 |
| 公差 | 0.01 | 类型 | 二维薄膜材料CVD |
| 表面处理 | 不经处理 | 厚度 | 不经处理 |
| 适用范围 | 不经处理 | 重量 | 不经处理 |
| 货号 | 无 | 用途 | 科研二维材料 |
| 加工能力 | 科研实验 | 规格 | 单层/多层连续薄膜,单层三角单晶晶粒 |
| 是否跨境出口专供货源 | 否 |
亲，有需要可以联系15652932614
基本性质:
无掺杂二硫化钼是层状N型半导体，属于过渡金属二硫族化合物，块状能带间隙为1.23eV （间接带隙），单层MoS2带隙~1.85eV（直接带隙）。
制造方法：
化学气相沉积法， Chemical Vapor Deposition （CVD）
产品简介：
MoS2薄膜分为多种： 1） 单层离散分布的三角状单晶晶粒，三角边长一般是几十至一百微米。 2） 由三角晶粒继续长大连在一起的单层连续薄膜。 3） 多层MoS2 连续薄膜。 4） 基底：MoS2可选基底较多，其中最常用的硅片基底、带氧化层硅片基底和蓝宝石基底为直接沉积产品。其他基底例如PET，PI，ITO，FTO，玻璃，金属基底等是通过在蓝宝石上生长后转移至客户所需基底。
应用领域：
光电器件，微电子器件，生物传感，化学传感等领域。
包装及规格
10*10mm,15*15mm,20*20mm,2英寸圆片，4英寸圆片 或客户指定的定制尺寸。 净化抽真空包装， 1片/盒，5片/盒。10片/盒。
苏州凯发新材料科技有限公司
联系人：
杨经理
服务热线：
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公司地址：
苏州工业园区东旺路8号8幢2楼206室
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