产品推荐
北京京迈研材料科技有限公司
联 系 人:杨杏林 QQ交谈 (联系时,请说明是在全球塑胶网上看到的)
联系电话:눐ꉧ눐-솆눐솆눐눐
手机号码:ꉧ뉳ꉧꙓꙓꙓ눐덱쎀
公司官网: http://03vz8ny73.51pla.com
所在地区:北京 北京市
进入店铺京迈研3521 氧化铋靶材Bi2O3磁控溅射材料电子束镀膜蒸发料
【参数说明】
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!
【产品介绍】
氧化铋又称为三氧化二铋,其分子式为Bi2O3的无机化合物,是铋最重要的化合物之一,虽然三氧化二铋可以从天然的铋华(一种矿物)取得,但是它主要的来源通常是炼铜或铅时的副产物,或直接燃烧铋(蓝色火焰)得到。
中文名
|
氧化铋
|
熔点
|
824°C
|
化学式
|
Bi2O3
|
沸点
|
1890°C
|
分子量
|
465.96
|
密度
|
8.9 g/cm3 固
|
【关于我们】
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
注 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。
北京京迈研材料科技有限公司
联系人:
杨杏林
服务热线:
ꉧ뉳ꉧꙓꙓꙓ눐덱쎀
눐ꉧ눐-솆눐솆눐눐
公司地址:
北京市通州区永乐店镇柴厂屯村东(联航大厦)1-886号
-
京迈研3501 五氧化二钽靶材 Ta2O5 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥800元
-
京迈研3502 钛酸钡靶材 BaTiO3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥700元
-
京迈研3504 铁酸铋靶材 BiFeO3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥1000元
-
京迈研3505 氧化亚钴靶材 CoO磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥1300元
-
京迈研3506 氧化镍靶材 NiO磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥800元
-
京迈研3507 氧化硼靶材 B2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥800元
-
京迈研3508 二氧化铈靶材 CeO2控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥800元
-
京迈研3509 氧化铝靶材 Al2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥500元
京迈研3521 氧化铋靶材 Bi2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料相关产品
- 京迈研3552 二氧化硅靶材 SiO2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3546 氧化镁靶材 MgO磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3540 氧化镧靶材 La2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3538 氧化铟靶材 In2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3534 二氧化铪靶材 HfO2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3531 二氧化钛靶材 TiO2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3530 氧化钆靶材 Gd2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3529 氧化镓靶材 Ga2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3528 二氧化钒靶材 VO2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3539 ITO靶材 氧化铟锡 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3526 氧化铁靶材 Fe2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3524 三氧化钼靶材 MoO3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3522 氧化铜靶材 CuO磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3521 氧化铋靶材 Bi2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3520 二氧化锆靶材 ZrO2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3519 三氧化钨靶材 WO3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3516 氧化镱靶材 Yb2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3515 三氧化二铬靶材 Cr2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
猜你在找
- 纳米氧化钇CY-Y01九朋
- 纳米氧化钇钇醇分散液cy-Y01G
- 纳米铯钨青铜粉 新型导电 隔热 红外吸收材料CY-XW30
- 纳米碳化硼粉CY-B4C1
- 纳米氧化镧醇分散液CY-La01G
- 纳米氧化镧分散浆CY-La01H 九朋
- 京迈研3501 五氧化二钽靶材 Ta2O5 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3502 钛酸钡靶材 BaTiO3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3504 铁酸铋靶材 BiFeO3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3505 氧化亚钴靶材 CoO磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3506 氧化镍靶材 NiO磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
- 京迈研3507 氧化硼靶材 B2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
免责声明:以上展示的京迈研3521 氧化铋靶材 Bi2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料信息由北京京迈研材料科技有限公司自行提供,内容的真实性、准确性和合法性由发布企业负责,
全球塑胶网对此不承担责任。
风险防范建议:为保障您的利益,建议优先选择速购通会员
手机版:京迈研3521 氧化铋靶材 Bi2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
更新产品链接为:https://www.51pla.com/html/sellinfo/481/48181708.htm
发送询价单