苏州北科纳米科技有限公司
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硅基200um石墨烯单晶

价格 2400/平方厘米
起订量 ≥1
所在地 江苏 苏州 可售量 10000平方厘米

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基本参数

加工定制 产地 北京
公差 0.01 形状 矩形
表面处理 不经处理 厚度 不经处理
适用范围 不经处理 重量 不经处理


货号 CAS号 编号 包装 参数 库存 补货期 价格
BKMK2651-01 7440-44-0 BKMK2651 1片/包装 1*1cm2 100
2400
BKMK2661-01 7440-44-0 BKMK2651 1片/包装 1.5*1.5cm2 100
3000
BKMK2671-01 7440-44-0 BKMK2651 1片/包装 2*2cm2 100
3600
BKMK2681-01 7440-44-0 BKMK2651 1片/包装 3*3cm2 100
4200
BKMK2691-01 7440-44-0 BKMK2651 1片/包装 4*4cm2 100
4800
BKMK2701-01 7440-44-0 BKMK2651 1片/包装 5*5cm2 100
6000


背景介绍:

目前制备高质量石墨烯的方法,有胶带剥离法、碳化硅或金属表面外延生长法和化学气相沉积法CVD,前两种方法效率低,不适于大量制备。而迄今由CVD法制备的石墨烯,一般是由纳米级到微米级尺寸的石墨烯晶畴拼接而成的多晶材料。

石墨烯优异的电、光、强度等众多优异性质使其在电子学、自旋电子学、光电子学、太阳能电池、传感器等领域有着重要的潜在应用,但大规模高质量制备技术是制约其进入实际应用的瓶颈之一。

牧科纳米技术团队经过长时间的技术攻关,不用昂贵的金属基体,在常见的铜衬底,以低浓度甲烷和高浓度氢气通过常压CVD法,成功制备出了100μm到几个毫米级六边形单晶石墨烯及其构成的石墨烯薄膜。而且可以转移到任意衬底上,方便取用。

该方法转移的单晶石墨烯具有很高的质量,将其转移到Si/SiO2基体上制成场效应晶体管,测量显示该单晶石墨烯室温下的载流子迁移率可达7100cm2V-1s-1

常见的铜基体上生长大尺寸单晶石墨烯及其薄膜技术的突破,为石墨烯基本物性的研究及其在高性能纳电子器件、透明导电薄膜等领域的实际应用奠定了材料基础。

石墨烯单晶表征数据:

200μm级别石墨烯单晶在铜衬底上的光学显微镜照片:



拉曼光谱:

span font-size:24px;line-height:28px;"="" style="margin-top: 0px; margin-bottom: 0px; color: rgb(0, 0, 0);"200μm级别硅基产品规格:




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