天津方形阵列不锈钢掩膜板 方形阵列钼片掩膜板定制 来图定制
价格 | ¥321/个 | |
起订量 | ≥1 | |
所在地 | 北京 null | 可售量 9999个 |
联系人:
张经理
企业已验证
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基本参数
加工定制 | 是 | 材质 | 不锈钢、钼片、镍片 |
材质厚度 | 0.05—3mm | 加工精度 | ±15um |
加工误差 | ±15um | 加工地址 | 北京、天津 |
服务范围 | 全国 | 加工面积 | 300*300 |
北华诺恒宇光能科技有限公司,生产定制各种:点矩阵掩模版,密集孔圆点矩阵mask,密集孔圆点矩阵掩模板,密集孔圆点矩阵掩膜板,密集孔指状梳状微间距掩膜版,密集孔指状梳状微间距掩模版,密集孔指状梳状微间距mask,密集孔指状梳状微间距掩模板,密集孔指状梳状微间距掩膜板,密集孔梳形掩膜版,密集孔梳形掩模版,密集孔梳形mask,密集孔梳形掩模板,密集孔梳形掩膜板,密集孔蒸镀掩膜版,密集孔蒸镀掩模版,密集孔蒸镀mask,密集孔蒸镀掩模板,密集孔蒸镀掩膜板,密集孔溅射叉指掩膜版,密集孔溅射叉指掩模版,密集孔溅射叉指mask,密集孔溅射叉指掩模板,密集孔溅射叉指掩膜板,密集孔叉指电极掩膜版,密集孔叉指电极掩模版,密集孔叉指电极mask,密集孔叉指电极掩模板,密集孔叉指电极掩膜板,密集孔镀膜掩膜版,密集孔镀膜掩模版,密集孔镀膜mask,密集孔镀膜掩模板,密集孔镀膜掩膜板,密集孔实验用掩膜版,密集孔实验用掩模版,密集孔实验用mask,密集孔实验用掩模板,密集孔实验用掩膜板,
我公司是一家高投入、高起点的私营企业,工厂成立于2002年,地处于北京丰台区南三环玉泉营,先后在北京昌平、天津滨海新区,建立分公司。交利,各项配套十分完善。
公司目前的业务方向定位于的精密金属零件加工市场,目标是成为中国的精密金属零件供应商。为工业向国际技术推进而供献自己的力量!
公司坚持在深化管理的技术改革中发展、以:“客户至上、以品质至胜、持续改进、追求”为方针,不断的引进,推广新的管理与生产技术。
公司以:“技术、品质、反应、交货。成本”为理念。为客户提供设计、制作,产品加工过程等全方位服务,限度的让客户满意,与客户携手共进,共创辉煌。
加工能力
小加工厚度:0.02
小加工宽度:0.01
华诺普锐斯公司是一家集从事金属精密加工、生产及销售制造商!公司专注于生产精密五金、IT产品配件、打印机配件、汽车配件、电器配件及工艺品产品的加工,公司产品取得了客户的一致认可, 如:联想、华为、中兴、BYD、富士康、美泰、东芝、TCL、格力、美的、飞利浦等大客户的认可。
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光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。
产品价格评估:以材料材质、产品要求的材料厚度、孔径管控的精度要求,以及量产数量综合评估。理想的方式是提供工程图给到我们,简洁明了,可以及时回复相关评估。
光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得,常用加工设备为直写式光刻设备,如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。
华诺激光 掩膜板个性定制加工事业部,将竭诚为您服务。
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公司以:“技术、品质、反应、交货。成本”为理念。为客户提供设计、制作,产品加工过程等全方位服务,限度的让客户满意,与客户携手共进,共创辉煌。
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小加工宽度:0.01
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华诺普锐斯公司是一家集从事金属精密加工、生产及销售制造商!公司专注于生产精密五金、IT产品配件、打印机配件、汽车配件、电器配件及工艺品产品的加工,公司产品取得了客户的一致认可, 如:联想、华为、中兴、BYD、富士康、美泰、东芝、TCL、格力、美的、飞利浦等大客户的认可。
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光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。
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产品价格评估:以材料材质、产品要求的材料厚度、孔径管控的精度要求,以及量产数量综合评估。理想的方式是提供工程图给到我们,简洁明了,可以及时回复相关评估。
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光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得,常用加工设备为直写式光刻设备,如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。
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公司地址:
北京市丰台区南三环西路88号春岚大厦1号楼
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