蒸镀掩膜标定掩膜版光栅掩膜板来图加工

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所在地	北京 null	可售量 9999件

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北京华诺恒宇光能科技有限公司

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主营产品：掩膜板, 蒸镀罩, 金属mask, 狭缝片, 补强钢片, 调整垫片, 叉指电极等,

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基本参数

材质	不锈钢、镍、钼	材质厚度	0.05-3mm
加工精度	±20um	加工面积	300*300mm
服务区域	全国

蒸镀掩膜标定掩膜版光栅掩膜板来图加工

掩膜板t-family: 微软雅黑;">主营产品掩膜板,掩膜夹具,金属mask,蒸镀罩,压缩机阀片,精密光栅,,垫片垫圈,钼片,不锈钢狭缝,热熔胶喷片,光电编码器,精密金属片、无连接点LOGO、无连接点精密垫片、精密喇叭网、打印机电、金属码盘、贴膜垫片、贴膜钢片、贴膜不锈钢片、掩模板、光栅片、过滤网、防尘网、铝材工艺品、不锈钢工艺品、精密弹片、打印机配件、引线框架、银行柜员机配件等激光精密切割产品生产及销售。

专注于生产精密五金、IT产品配件、打印机配件、汽车配件、电器配件及工艺品产品的加工，公司产品取得了客户的一致认可, 如:联想、华为、中兴、BYD、富士康、美泰、东芝、TCL、格力、美的、飞利浦等大客户的认可。

光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。

光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。

掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。

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