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掩模板清洗机_光刻工艺清洗设备_苏州芯矽电子科技

价格	￥0.00/台
起订量	≥1
所在地	江苏苏州	可售量 10000台

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掩模板清洗机_光刻工艺清洗设备_苏州芯矽电子科技

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基本参数

品牌	苏州芯矽	型号	定制
加工定制	定制	产地	苏州
封装	定制	形状	矩形或方形
批号	定制	材料	根据需求选择
材质	不锈钢、铝合金、PP等	沟道类型	定制
用途	清洁光刻工艺中掩模版	种类	定制
类型	定制	特性	定制
产品尺寸	定制

掩模板清洗机是半导体制造过程中不可或缺的设备之一，它专门用于清洗光刻工艺中的掩模板（也称为光罩或光掩模）。以下是对掩模板清洗机的详细描述：

一、设备概述

掩模板清洗机主要用于去除掩模板表面的颗粒、有机物、无机物和金属离子等污染物，以确保掩模板在光刻过程中的精确性和可靠性。该设备通过化学清洗、兆声波清洗、DI水喷淋清洗等多种方式结合，实现对掩模板的高效清洗。

二、主要组成部分

清洗槽：清洗槽是掩模板清洗机的核心部件，用于容纳清洗液和待清洗的掩模板。清洗槽通常采用耐腐蚀的材料制成，如聚丙烯（PP）或聚四氟乙烯（PTFE），以确保在清洗过程中不会与清洗液发生化学反应。

喷嘴系统：喷嘴系统用于将清洗液均匀地喷射到掩模板表面，以去除表面的污染物。喷嘴的数量和布局因设备型号和制造商的不同而有所差异，但通常会根据掩模板的形状和尺寸进行优化设计，以确保清洗液能够全面覆盖掩模板表面并达到最佳的清洗效果。

兆声发生器：兆声发生器是产生兆声波的关键部件，用于在清洗液中产生高频振动能量，从而加速清洗液与掩模板表面污染物的反应速度，提高清洗效率。兆声波的频率通常在兆赫兹（MHz）级别，远高于人耳可听范围。

DI水喷淋系统：DI水喷淋系统用于在清洗过程结束后对掩模板进行冲洗，以去除残留的清洗液和杂质。DI水（去离子水）具有极高的纯度，不含任何溶解固体、有机物质或微生物，因此非常适合用于冲洗半导体设备和零件。

控制系统：控制系统用于控制掩模板清洗机的整个工作流程，包括清洗参数的设置、清洗时间的设定、报警提示等。控制系统通常采用微电脑程序控制，具有高度自动化和智能化的特点，能够确保设备的稳定运行和高效清洗。

三、工作原理

掩模板清洗机的工作原理可以概括为以下几个步骤：

预清洗：首先对待清洗的掩模板进行预清洗，去除表面的大颗粒杂质和灰尘。

化学清洗：将掩模板浸入含有特定化学成分的清洗液中，通过化学反应去除表面的有机物和金属离子等污染物。

兆声波清洗：利用兆声发生器产生的高频振动能量，在清洗液中形成微小的气泡并迅速爆裂，产生强大的冲击力和微射流，从而加速清洗液与掩模板表面污染物的反应速度，进一步提高清洗效率。

DI水喷淋清洗：经过化学清洗和兆声波清洗后，使用DI水喷淋系统对掩模板进行冲洗，以去除残留的清洗液和杂质。

干燥：最后对掩模板进行干燥处理，确保其表面无水分残留。

四、应用领域

掩模板清洗机广泛应用于半导体制造、微电子、光伏等行业的光刻工艺中。在这些行业中，掩模板的清洁度对于保证产品质量和生产效率至关重要。通过使用掩模板清洗机，企业可以显著提高掩模板的清洁度和使用寿命，降低生产成本并提高市场竞争力。

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陈经理

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苏州市工业园区江浦路41号

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