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三甲基硅烷（C3H10Si）

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基本参数

三甲基硅烷

Trimethylsilane

Chemical formula: (CH3)3 Si ，CAS：993-07-7

ü应用于半导体工业SiCN扩散阻挡层制备工艺，沉积低介电常数的铜扩散阻挡层或刻蚀停止层，采用等离子体辅助化学气相沉积方法PECVD制得;

ü用于制造纳米疏水剂，纳米疏水涂层增大与水的接触角，从而显著提高了排水效果，只需少量的水来清洗，同时减小了水的滑动角，使玻璃表面更容易擦洗，祛除了有害清洁剂的使用；

ü用于制造光引发剂，光引发剂又称光敏剂或光固化剂，是一类能在紫外光区或可见光区吸收一定波长的能量，产生自由基、阳离子等，从而引发单体聚合交联固化的化合物。光引发剂应用于光刻胶及配套化学品、UV 涂料、UV油墨等诸多领域；

ü军事领域，中国，美国，日本，俄罗斯均将大量三甲基硅烷应用于军事产品制造。

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