特斯科化工(湖北)有限公司

主营产品：氯乙酰氯、二环己胺、邻氯氯苄、异丙叉丙酮、异山梨醇二甲醚、月桂酰肌氨酸钠、异硫氰酸胍、2-甲基-2-丁烯、精蒽、精萘、亚硝酸二环己胺、二甲氧基苯乙胺

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对乙酰氧基苯乙烯 4-乙酰氧基苯乙烯 2628-16-2 武汉生产厂家可批发可零售

价格	￥15.00/公斤
起订量	≥1
所在地	湖北武汉	可售量 10000公斤

联系人：郑宇亭

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公司官网： www.tskchemical.com

所在地区：湖北省武汉市

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基本参数

纯度	99%	规格	200L
品牌	特斯科	产品名称	对乙酰氧基苯乙烯
用途	中间体	CAS	2628-16-2
产地	武汉	供货方式	现货
化学名	4-乙烯基苯基乙酸酯 \|4-乙酰氧基苯乙烯 \| 乙酸-4-乙烯基苯基酯	执行质量标准	国标
外观与性状	无色液体

常用名对乙酰氧基苯乙烯

别名 4-乙烯基苯基乙酸酯 |4-乙酰氧基苯乙烯 | 乙酸-4-乙烯基苯基酯

英文名 4-Ethenylphenol acetate

CAS号 2628-16-2

EINECS 434-600-2

分子式 C10H10O2

分子量 162.185

密度 1.1±0.1 g/cm3

沸点 260.0±0.0 °C

熔点 7-8 °C

闪点 87.8±0.0 °C

性状无色液体

用途

4-乙酰氧基苯乙烯可用于合成作为光致抗蚀剂(光刻胶)主要成分的聚对羟基苯乙烯。聚对羟基苯乙烯系列的化学增幅型光致抗蚀剂是目前国际上主流的光致抗蚀剂产品，是用于处理光蚀刻集成电路、制造芯片的关键技术之一。光蚀刻技术由生产0.3～0.28μｍ线宽，发展到改用深紫外光（波长248nm）生产0.18μｍ线宽，更可通过超深紫外光（波长193nm）刻画线宽达0.11μｍ的微细回路。248nm光刻胶通常采用聚对羟基苯乙烯衍生物为成膜树脂，芳基碘鎓盐或硫鎓盐作为光致产酸剂，运用化学增幅技术，在光作用下光致酸发生剂释放出酸，然后酸催化使聚合物交联(负胶)或发生脱保反应(正胶)，从而使感光灵敏度极大地提高。